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P5 PH1 所需的这些光刻机来自 ASML 和佳能,其中约 20 台为 ASML 的 EUV 曝光系统。P5 PH1 将用于 1c nm 制程 DRAM 生产,将同时制造通用内存和 HBM。三星电子预计将从 2027Q2 开始为平泽 P5 PH1 安装图案化设备,届时该阶段的洁净室施工也将完成,有望在 2027 年内对产能带来有意义的贡献,满足英伟达 "Rubin" 与其它 AI XPU 的需求
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发布时间:02:39:14